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詳細介紹
基于PID處理控制器的Solaris GUI可以存儲程序，每套程序可以支持高達100個步驟的設定，帶USB2.0的接口。包含Solaris GUI 軟件，與微軟Windows操作系統兼容。通過該軟件，通過鏈接電腦可以非常方便地實現程序編輯以及數據記錄。
技術規格：
- 溫度：1200攝氏度；
- 升溫速率：150攝氏度/秒；
- 溫控均勻性：±2.5℃設定溫度；
- 加熱方式：紅外鹵素燈，頂部及底部區域加熱；
- 處理時間：0.1秒至無*；
- 燈管數量及功率：13支，
- 腔體冷卻：風冷方式；
- 襯底冷卻：氮氣吹掃；
- 工藝氣路：MFC控制，多6路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等)；
型號 | Solaris 100 | Solaris 150 | Solaris 150UV | Solaris 200 | Solaris Eclipse |
處理大樣品尺寸 | 100mm | 150mm | 150mm | 200mm | 200mm |
溫度(℃) | 室溫~1200℃/s | 室溫~1200℃/s | 室溫~1200℃/s | 室溫~1200℃/s | 室溫~1200℃/s |
工藝氣體 | 1~4路 | 1~6路 | 1~6路 | 1~6路 |
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紅外鹵素燈 | 13支 | 21支 |
| 28支 |
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紅外鹵素燈冷卻方式 | 風冷 | 風冷 | 風冷 | 風冷 | 風冷 |
溫度控制 | PID數控 | PID數控 | PID數控 | PID數控 | PID數控 |
溫度精度 | ±2℃ | ±2℃ | ±2℃ | ±2℃ | ±2℃ |
熱電偶 | K型熱電偶 | K型熱電偶 | K型熱電偶 | K型熱電偶 | K型熱電偶 |
臭氧功能 |
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| 有，蝕刻速率> 25-50A /min |
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機器外觀 | 臺式機 | 臺式機 | 臺式機 | 臺式機 | 臺式機 |
應用領域：
快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
硅化 (Silicidation);
擴散 (Diffusion);
化合物半導體退火 (Compound Semiconductor Annealing);
離子注入后退火 (Implant Annealing);
電極合金化 (Contact Alloying);
晶向化和堅化 (Crystallization and Densification);
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