德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。

德國Micro Resist公司創立于1993年.公司生產的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學波導制作的光膠可供選擇。

Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產品以技術著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產品被廣泛收錄進美國各大學半導體教程，是各大研究機構產品。

Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產品以技術著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產品被廣泛收錄進美國各大學半導體教程，是各大研究機構產品。

SU-8 2000化學放大，i線抗蝕劑非常適合制造 permanent性器件結構。 這些負色調，環氧基抗蝕劑表現出優異的耐化學性和低的楊氏模量，使其成為制造微/納米結構的理想選擇，如懸臂，膜和微通道。

SU-8 3000已被配制用于改進的粘合性和降低的涂層應力。它被用于需要高結合強度和改進的微結構制造柔性的地方。 結果，大大提高了與基板的粘合性。