光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜產(chǎn)品的測量

　　光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng)，可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及nk，采用r-θ極坐標(biāo)移動平臺，可以在幾秒鐘的時間內(nèi)快速的定位所需測試的點并測試厚度，可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測試點。針對不同的晶圓尺寸，盒對盒系統(tǒng)可以很容易的自動轉(zhuǎn)換，匹配當(dāng)前盒子的尺寸。49點的分布圖測量只需耗時約45秒。用激光粒度分布儀測試膠體的粒度分布時應(yīng)配合其它檢測手段驗證測試結(jié)果的準(zhǔn)確性，同時應(yīng)使用去離子水作為分散介質(zhì)，防止自來水中的電解質(zhì)造成顆粒團聚影響測試結(jié)果。適用于已知折射率的單一物質(zhì)粒度分布測試，因此測試前要知道被測樣品的折射率，折射率選取的不同會對測試結(jié)果造成一定的影響。

　　光學(xué)膜厚儀的主要特點：

　　基片折射率和消光系數(shù)測量；

　　薄膜厚度測量，平均值和標(biāo)準(zhǔn)偏差分析；

　　薄膜折射率和消光系數(shù)測量；

　　適用于不用材質(zhì)和厚度的薄膜、涂層和基片；

　　測試數(shù)據(jù)輸出和加載；

　　直接Patterned或特征機構(gòu)的試樣測試；

　　可用于實時在線薄膜厚度、折射率監(jiān)測；

　　波長范圍可選；

　　系統(tǒng)配備*的光學(xué)常數(shù)庫和材料數(shù)據(jù)庫，便于測試和數(shù)據(jù)分析。

　　光學(xué)膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種薄膜，并且還有半導(dǎo)體液晶顯示器等一系列的材料和產(chǎn)品的測量。一般的產(chǎn)品我們可以拿尺來進行測量，對精度要求也不高。但是對薄膜等產(chǎn)品來說，精度是關(guān)系到產(chǎn)品的組裝和性能的，所以一定要測量。測量儀功能不能能夠準(zhǔn)確的進行測量，還能及時的顯示出數(shù)據(jù)。

　　其次可以計算薄膜厚度，一般采用光干涉法，薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)，我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。

　　再次，就是操作方便，效率較高。這種優(yōu)勢對于薄膜測試的時候是非常重要的，畢竟薄膜測試是一種比較枯燥的工作，如果測試又比較繁雜的話，會使人心情焦躁，難免會影響測試時間和測試結(jié)果。而操作方便，容易上手，幾秒鐘內(nèi)即可完成測量和數(shù)據(jù)分析，發(fā)展?jié)摿薮蟆?/div>