通過白光反射光譜（WLRS）和FR映射器繪制薄膜厚度目標：在大面積上表征薄膜厚度均勻性。測量方法：采用Fr-Basic與Fr-Mapper相結(jié)合的方法，在大面積的預定點上快速、準確地測量薄膜厚度。當樣品固定在一個Fr-Mapper上時，所有的測量都用一個Fr-Basic進行調(diào)節(jié)，使其在540-1000納米的光譜范圍內(nèi)工作。反射探頭的有效光斑直徑為0.5毫米。樣品是涂有SiO2（熱的或TEOS）和Si3N4（LPCVD）/SiO2（熱的）4英寸硅晶片。在參考測量中，使用了高反射...

鈣鈦礦廣泛用于太陽能電池的開發(fā)。由于這些類型的太陽能電池具有良好的光伏性能，因此對它們進行了系統(tǒng)的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態(tài)是影響太陽能電池性能的重要因素。特別地，人們發(fā)現(xiàn)，當鈣鈦礦的厚度小于400nm時，鈣鈦礦太陽能電池的效率很大程度上取決于薄膜厚度；而當鈣鈦礦的厚度大于400nm時，效率則很大程度上取決于鈣鈦礦層的薄膜形態(tài)。在本應(yīng)用說明中，我們使用FR工具測量鈣鈦礦薄膜的厚度。測量方法：用于表征的樣品是兩種不同厚度的CH3NH3PbBr3鈣鈦礦薄膜，它們位于標準ITO/...

WS1000濕法刻蝕機適用于哪些工藝行業(yè)中WS1000濕法刻蝕機是由全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng)，可選擇WS-1000M濕法刻蝕設(shè)備，WS1000濕法刻蝕機旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以被配置成測試模塊構(gòu)造，安裝簡便，易于拆卸，更便于操作者控制。WS1000濕法刻蝕機工作原理：WS1000濕法刻蝕機具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復進行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮...

德國Diener等離子清洗機使用過程及其結(jié)合的技術(shù)應(yīng)用德國Diener等離子清洗機操作過程：人工將產(chǎn)品不停的放入流水線上，不停的傳送，直噴噴槍或旋轉(zhuǎn)噴槍不停的工作清洗產(chǎn)品表面，清洗一個產(chǎn)品大約需要12S，（清洗速度可根據(jù)流水線轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)，流水線轉(zhuǎn)速越快則效率越高）兩把風槍清洗，故清洗一個產(chǎn)品只需要6S，提率，清洗完后自動流出，人工取出產(chǎn)品。等離子體是在氣體受到高能量放電時產(chǎn)生的：氣體分解成電子，離子，高度活性自由基，短波紫外光子和其他激發(fā)粒子。這些物質(zhì)當被高能量放電激發(fā)時有效...

美國Tergeo系列臺式等離子清洗機為實驗室、研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門提供性價比高的小型等離子清洗設(shè)備。Tergeo-EM等離子清洗機是為SEM/TEM樣品清洗應(yīng)用而設(shè)計。它取代了標準Tergeo等離子清洗機中的石英窗，采用不銹鋼適配器，可放入兩個不同品牌的TEM樣品桿，可將SEM樣品架放置在內(nèi)部石英板上進行清洗。特點：1）雙等離子源設(shè)計可滿足不同樣品的要求。間接模式足夠溫和，可以處理3nm超薄多孔碳網(wǎng)格。直接模式可以足夠強，可以去除超過幾微米厚的有機污染層。直接/浸入式清洗模式...

3850壓實密度儀壓實密度與片比容量關(guān)系3850壓實密度儀原理:鋰離子動力電池在制作過程中，壓實密度對電池性能有較大的影響。通過實驗證明，壓實密度與片比容量，效率，內(nèi)阻，以及電池循環(huán)性能有密切的關(guān)系。找出*壓實密度對電池設(shè)計很重要。一般來說，壓實密度越大，電池的容量就能做的越高，所以壓實密度也被看做材料能量密度的參考指標之一。壓實密度不光和顆粒的大小、密度有關(guān)系，還和粒子的級配有關(guān)系，壓實密度大的一般都有很好的粒子正態(tài)分布?？梢哉J為，工藝條件一定的條件下，壓實密度越大，電池的...

德國Diener等離子清洗機可以處理各種形狀的樣品德國Diener等離子清洗機發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng)，射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學反應(yīng)，微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學反應(yīng)。超聲等離子體清洗對被清潔表面產(chǎn)生的影響大，因而實際半導體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。而超聲等離子則應(yīng)用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面效果佳，典型的等離子體物理清洗工藝是在反應(yīng)腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗；氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng)，而是...