鍵合機(jī)特點(diǎn)介紹：1、全自動(dòng)運(yùn)行，自動(dòng)識(shí)別芯片電極，自動(dòng)焊接、自動(dòng)上下料，一人可操作多臺(tái)機(jī)器，降低人力成本，地發(fā)揮操作人員的效能。2、全中文界面，醒目的圖標(biāo)設(shè)計(jì)，*的用戶引導(dǎo)系統(tǒng)，簡單易學(xué)，一目了然3、人體工程學(xué)設(shè)計(jì)，讓操作人員享受的舒適4、新型穩(wěn)定的電子打火燒球，成球垂直、無偏移，可焊接更小的芯片5、焊點(diǎn)飽滿、穩(wěn)定、可靠；第二焊點(diǎn)可形成大魚尾；焊點(diǎn)一致性好6、多種線弧選擇模式，也可以自己編程，可滿足所有LED產(chǎn)品的線弧要求7、線弧一致性好，可實(shí)現(xiàn)超低線弧，節(jié)約您的金線成本。8...

液壓壓片機(jī)的操作步驟：1、工作前檢查油池筒內(nèi)機(jī)油保持2/3筒高的液位高度，泄壓閥處于開啟狀態(tài)。2、將模具或需壓物品臵于工作臺(tái)中央，旋下絲杠進(jìn)行預(yù)緊。3、順時(shí)針擰緊泄壓閥手輪。4、上下?lián)u動(dòng)壓把至需要的表壓，保壓適當(dāng)時(shí)間。5、逆時(shí)針?biāo)砷_泄壓閥手輪。6、旋開預(yù)緊的絲杠后取出模具或需壓物品。液壓壓片機(jī)使用注意事項(xiàng)1初次使用前應(yīng)對(duì)照機(jī)器實(shí)物仔細(xì)閱讀說明書，然后再使用。2操作時(shí)不得將手或其它工具接觸壓片室。3物料中不得含有金屬或固體物質(zhì)，以免損壞模具。4更換模具時(shí)，應(yīng)關(guān)閉電源。5當(dāng)機(jī)器聲...

紫外固化機(jī)的使用方法：1.該產(chǎn)品對(duì)光敏感。在儲(chǔ)存和操作過程中，有必要控制對(duì)各種光源的照射，例如日光，紫外線和其他人造光源；2.在使用過程中應(yīng)清潔密封或粘合的表面，以去除表面的雜質(zhì)和油漬。等待污染物以獲得預(yù)期的密封和粘合效果；3.固化：需要用紫外線或可見光照射到達(dá)粘合層并具有適當(dāng)波長的光。時(shí)間取決于燈的強(qiáng)度和光距離，一般的照明時(shí)間是固定時(shí)間的六倍；4.粘接某些對(duì)溫度敏感的材料時(shí)，需要將其冷卻后再使用；5.可以用適當(dāng)?shù)挠袡C(jī)溶劑去除未固化的粘合劑。6.承受負(fù)載之前，必須將粘合的零件...

制樣機(jī)是指可以制作各種規(guī)格的力學(xué)拉伸試樣條，采用全自動(dòng)CNC數(shù)控系統(tǒng)控制，操作簡便，自動(dòng)切割樣條，切割精度高，速度快，制作的試樣形狀不受機(jī)器限制，只要提供程序，可以制作各種形狀的試樣，條形、啞鈴型、圓形、各種不規(guī)則圖形等；主要用途用于鋁合金、銅等有色金屬材料及橡膠塑料、玻璃鋼、塑料、纖維板、有機(jī)玻璃、增強(qiáng)玻璃纖維板、特殊復(fù)合等材料，也可以用于材料粉末取樣等作用；通過程序控制器控制三軸聯(lián)動(dòng)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)金屬或者非金屬板材的樣條切割、啞鈴型試樣切割、沖擊缺口切割功能，并可以將任意形狀...

具有可控和可調(diào)節(jié)表面化學(xué)性質(zhì)的清潔表面對(duì)于改善材料的界面，生物和電子性能，以獲得Zjia的設(shè)備和結(jié)構(gòu)性能至關(guān)重要。等離子體表面處理可去除納米級(jí)有機(jī)污染物，并在不影響整體材料的情況下改變表面化學(xué)性質(zhì)。等離子清洗的好處等離子體清潔是通過化學(xué)反應(yīng)（O2或空氣等離子體）或物理消融（Ar等離子體）去除有機(jī)污染物。等離子體處理還在表面上引入了化學(xué)官能團(tuán)（羰基，羧基，羥基），使大多數(shù)表面具有親水性，水接觸角的減小和潤濕性的提高。清潔且親水的表面通常對(duì)于促進(jìn)附著力和增強(qiáng)與其他表面的粘合至關(guān)重...

硅的各向異性濕法腐蝕是一種常用的制造微機(jī)械結(jié)構(gòu)的體硅微加工技術(shù)，因?yàn)槠鋵?shí)現(xiàn)相對(duì)容易，成本也相對(duì)低廉。而且，在大多數(shù)工藝中不需要消耗電力資源。在這一過程中，其反應(yīng)為：Si+4H2O-Si(OH)4+2H2氫氧根離子沒有明確出現(xiàn)在反應(yīng)中，但它十分重要，因?yàn)樗呋磻?yīng)并確保Si(OH)4產(chǎn)物在溶液中的溶解度。腐蝕的速率取決于溫度、蝕刻劑組成和表面的晶體學(xué)取向關(guān)系。值得注意的是，因?yàn)檫@種反應(yīng)只涉及到化學(xué)反應(yīng)，當(dāng)半導(dǎo)體的電位被外部電源改變使，它的反應(yīng)速率卻不受影響。各向異性所有堿性蝕刻...

ICP/RIE蝕刻應(yīng)用范圍：-Si，SiO2，SiN蝕刻工藝-Al，Cr，Ti，TiW，Au，Mo等金屬蝕刻工藝-晶圓尺寸：一片，4英寸，6英寸晶圓RIE等離子刻蝕案例：SiO2/SiN蝕刻80sccmCF4，均勻性幾種功率水平下的壓力與蝕刻速率（如下圖）：PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料，擁有模塊化腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小，觸摸屏計(jì)算機(jī)控制，多級(jí)程序控制和組件控制，操作簡單。用于研究、工藝開發(fā)和批量生產(chǎn)，...