德國納米壓印光刻膠

簡要描述：高分辨率：支持＜100 nm 結構壓印（如mr-NIL212FC可實現200nm柱陣列）。
量產適配：
UV-NIL：室溫低壓（＜100 mbar），適合大面積和連續生產（R2R）。
T-NIL：熱塑性/熱固性可選，平衡效率與穩定性。
工藝靈活性：
可搭配 LOR 光刻膠實現金屬納米結構剝離（Lift-off）。
通過 SiPOL 硅含量樹脂實現圖案放大，用于深槽刻蝕。

產品型號：mr-NIL212FC
廠商性質：代理商
更新時間：2025-07-02
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光刻膠

正性光刻膠 SU-8膠顯影液 Futurrex光刻膠納米光刻壓印膠查看全部產品

納米壓印光刻 (NIL) 解決方案——高性能光刻膠，助力納米制造革命

——來自德國 micro resist technology，納米壓印光刻材料的行業先驅

核心優勢

? Excellence的薄膜質量 | ? 高保真圖案復制 | ? 優異的干法刻蝕性能
? 廣泛的印章兼容性 | ? 定制化解決方案 | ? 符合工業級安全標準（ISO 9001 & 14001）

應用領域：

l光子學（超表面、光柵、AR/VR）

l下一代電子器件（納米線、MEMS）

l生命科學與傳感器（微流控芯片、生物傳感器）

明星產品系列

1. UV-NIL 光刻膠

產品型號	核心特性	適用場景
mr-NIL210	專為 PDMS 類柔性印章優化，極薄殘膠控制（<10nm），高均勻性	柔性基底、曲面壓印、快速量產
mr-NIL212FC	兼容低強度光源（<40>2（SiO?），適合精密金屬蝕刻	納米電子、金屬納米結構制造
mr-NIL200	自粘附配方，無需底涂，專為硬質印章（石英/OrmoStamp®）設計	高精度光學元件、硬質基底壓印
mr-UVCuF26SF	溶劑型噴墨專用，低自發熒光，生物相容性佳	生物芯片、醫療器件

2. 熱壓印（T-NIL）光刻膠

3. 創新工藝方案

NIL + 剝離工藝：結合 mr-NIL212FC/LOR 實現復雜金屬納米結構（如 200nm 金屬網格）。

NIL + 深度刻蝕：通過含硅光刻膠 SiPOL 或硬掩模（SiO?）實現高深寬比結構放大。

產品咨詢

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德國納米壓印光刻膠

納米壓印光刻 (NIL) 解決方案——高性能光刻膠，助力納米制造革命

核心優勢

明星產品系列

1. UV-NIL 光刻膠

2.

2.

熱壓印（T-NIL）光刻膠

3. 創新工藝方案

NIL + 剝離工藝：結合 mr-NIL212FC/LOR 實現復雜金屬納米結構（如 200nm 金屬網格）。

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