狹縫涂布儀
ossila狹縫涂布機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，價(jià)格實(shí)惠，使用簡(jiǎn)單。體積小巧，但外殼堅(jiān)固，系統(tǒng)
精確度高 - 對(duì)于那些希望在小型實(shí)驗(yàn)室中擴(kuò)大其加工技術(shù)的人來(lái)說(shuō)，它是好
的選擇。
狹縫涂布系統(tǒng)為您的研究提供以下益處：
•不銹鋼槽模頭為您提供均勻的分配解決方案
•內(nèi)置便捷的操作軟件 - 該系統(tǒng)擁有自己的獨(dú)立數(shù)字控制系統(tǒng)，因此您無(wú)需將其
連接至外部計(jì)算機(jī)
•可互換的墊片 - 通道厚度可變，通用性更高
•內(nèi)置注射泵 - 因此您可以同步開(kāi)始時(shí)間，不需要單獨(dú)接外部注射泵
•在加熱階段，溫度可控制在 140°C - 更好地使溶液潤(rùn)濕
•行程距離可達(dá) 15 厘米
•速度從 50μm/s 到 75mm/s 的電動(dòng)操作臺(tái) - 為控制彎月面提供了一個(gè)寬廣的加
工窗口
•操作臺(tái)調(diào)平，數(shù)字式高度測(cè)量計(jì)可以精確到 1um
•三點(diǎn)校平系統(tǒng)精確對(duì)準(zhǔn)
•千分尺用于精確定位相對(duì)于基材位置的頭部
與卷對(duì)卷和片對(duì)片沉積工藝相兼容，狹縫涂布是用于可擴(kuò)展沉積薄膜的技術(shù)
之一。其廣泛的加工窗口確保穩(wěn)定、無(wú)缺陷的沉積，適用于各種粘度的溶液。薄
膜均勻度高，準(zhǔn)確且可重復(fù)，厚度可通過(guò)改變流速和基材速度來(lái)控制。
特征
節(jié)省空間的設(shè)計(jì) - 考慮到實(shí)驗(yàn)室空間的設(shè)計(jì)，我們的緊湊型桌面設(shè)計(jì)使設(shè)備可
放置在標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)臺(tái)，通風(fēng)櫥，甚至手套箱內(nèi)。
輕松設(shè)置 - 即插即用。不需要壓縮氣體或真空管線(xiàn)，可以輕松地在不同的實(shí)驗(yàn)
室和不同的環(huán)境之間移動(dòng)。
高交叉網(wǎng)均勻性 - 通過(guò)使用簡(jiǎn)單的衣架設(shè)計(jì)來(lái)分配溶液，橫跨頭寬，流速均勻。
這樣可獲得高度均勻的涂層，適用于各種粘度的溶劑。不銹鋼槽模頭可與廣泛的
材料兼容。
通道厚度可變 - 可互換的不銹鋼墊片可以更改槽模通道的厚度。通過(guò)插入多個(gè)
墊片，以 100μm 的間隔增加通道厚度。
均勻的流量和厚度 - 我們的槽模系統(tǒng)配有內(nèi)置注射泵。用戶(hù)可精確控制進(jìn)入狹
縫模頭系統(tǒng)的溶液量，從而能精確和可重復(fù)地控制沉積膜的厚度。內(nèi)置注射泵由
相同的內(nèi)部軟件控制，因此不需要任何外部控制 - 您可以為實(shí)驗(yàn)設(shè)定同步啟動(dòng)
時(shí)間。
溫度控制 – 操作臺(tái)上的內(nèi)置熱板可以將基板溫度控制在最高溫 140°C。另外，
軟件中可以設(shè)置溫度偏移量以適應(yīng)高氣流環(huán)境，校正基板和熱板溫度之間的差異。
通過(guò)降低表面張力控制基材溫度可改善溶液的潤(rùn)濕性，同時(shí)干燥速率也可以改變
沉積膜的納米結(jié)構(gòu)。
基板速度范圍廣 - 我們的操作平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)平穩(wěn)，連續(xù)的移動(dòng)。電機(jī)能以低至
50μm/s 的速度移動(dòng)到高達(dá) 75mm/s 的速度，該系統(tǒng)擁有控制彎月面的寬加工窗
口。
精確校準(zhǔn) - 通過(guò)使用三點(diǎn)校平系統(tǒng)和高精度千分尺，可以精確校準(zhǔn)操作臺(tái)頭部。
仔細(xì)對(duì)準(zhǔn)使系統(tǒng)在操作臺(tái)行程長(zhǎng)度上實(shí)現(xiàn)低至 1um / cm 的高度變化。
頭部高度控制 -通過(guò)調(diào)整狹縫模頭的高度，可以改善彎月面的穩(wěn)定性，改變最小
濕膜厚度。
內(nèi)置軟件
狹縫涂布機(jī)內(nèi)置系統(tǒng)軟件。高清全彩色 LCD 液晶顯示屏，內(nèi)置軟件可編程復(fù)雜的
多步驟過(guò)程，其中系統(tǒng)的不同部分可以獨(dú)立控制。由于所有元素都包含在系統(tǒng)中，
因此不需要任何外部計(jì)算機(jī)控制 - 進(jìn)一步節(jié)省實(shí)驗(yàn)室中的資金和空間。
系統(tǒng)能夠保存 20 個(gè)不同的程序，每個(gè)程序最多包含 50 個(gè)步驟。用戶(hù)可選擇各種
溶液分配速度，分配量，分配時(shí)間，階段速度和移動(dòng)的距離。結(jié)合簡(jiǎn)單易用的控
制面板和用戶(hù)界面，系統(tǒng)編程可以快速完成。
應(yīng)用
到目前為止，夾縫涂布機(jī)的應(yīng)用有很多，其中包括：
•有機(jī)光伏
•有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管
•導(dǎo)電聚合物
•納米線(xiàn)
•納米管
•2D 材料
•有機(jī)發(fā)光二極管
•鈣鈦礦光伏
•鈣鈦礦發(fā)光二極管
•染料敏化太陽(yáng)能電池
還有很多...
產(chǎn)品規(guī)格
卷對(duì)卷兼容 - ossila狹縫涂布機(jī)是可以并入卷對(duì)卷和片對(duì)片的沉積系統(tǒng)的許多沉積方法
之一。這些優(yōu)點(diǎn)是當(dāng)將沉積系統(tǒng)結(jié)合到在線(xiàn)工藝中時(shí)可以提高產(chǎn)量。通過(guò)提高產(chǎn)
量，薄膜電子器件的整體生產(chǎn)成本將大幅降低。
可靠和簡(jiǎn)單 - 狹縫涂布是制造薄濕膜可靠的技術(shù)之一，并且能夠生產(chǎn)多米范
圍內(nèi)變化小于 2％的涂層。厚度控制僅由溶液流速和基材速度決定，而涂層缺陷
的存在可通過(guò)改變幾個(gè)幾何參數(shù)來(lái)消除（不會(huì)改變涂層厚度）。
研究中的應(yīng)用 - 雖然狹縫涂布技術(shù)是一種非常強(qiáng)大的技術(shù)，但由于它主要是工
業(yè)技術(shù)，因此它在薄膜電子學(xué)研究和開(kāi)發(fā)中的應(yīng)用受到限制。因此，即使是簡(jiǎn)
單的系統(tǒng)價(jià)格也很高，因?yàn)橹圃焐逃闲袠I(yè)而不是學(xué)術(shù)界。而且，這些系統(tǒng)通常
比剛開(kāi)始開(kāi)發(fā)沉積薄膜所需的加工技術(shù)的研究人員所需要的更大和更復(fù)雜。借助
Ossila 緊湊型槽模涂布機(jī)，研究人員可以在實(shí)驗(yàn)室中使用槽模涂布機(jī)，從而優(yōu)化
油墨配方和工藝參數(shù)，而無(wú)需進(jìn)行大量印刷。最終，這有助于研究人員確保他們
的發(fā)現(xiàn)可以擴(kuò)大實(shí)際應(yīng)用。
控制薄膜厚度 - 由于狹縫涂布是一種預(yù)先計(jì)量的涂布技術(shù)，所沉積的濕膜厚度
僅取決于溶液流速，基材速度和涂布寬度。當(dāng)考慮溶液濃度和材料密度時(shí)，可以
確定干膜厚度，這在下面的公式中給出。
控制槽模涂層厚度的等式，其中 d 是涂層厚度[cm]，f 是流速[cm 3 / min]，v 是涂
層速度[cm /
min]，w 是涂層寬度[cm] ，c 是墨水濃度[g / cm 3 ]，ρ是干燥膜的密度[g / cm 3 ]。
無(wú)缺陷涂層 - 槽模涂層依賴(lài)于形成穩(wěn)定的涂層珠粒。該焊道由上游和下游彎液
面組成，需要將其固定在狹槽模頭的凸緣上。通過(guò)平衡來(lái)自狹縫模頭的流體與襯
底表面上的粘性流動(dòng)之間的平衡，該珠粒可以被穩(wěn)定。可以改變各種參數(shù)以改變
這兩種競(jìng)爭(zhēng)的流動(dòng) - 這包括溶液流速，襯底速度，頭部高度，溶液潤(rùn)濕和槽模
頭部通道厚度。這樣可以有多種方法將涂層加工成穩(wěn)定的涂層窗口，以獲得無(wú)缺
陷的薄膜。
產(chǎn)品型號(hào)：L2005A2 
聯(lián)系人：鄧經(jīng)理
地址：洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來(lái)城A棟
郵箱：sales@mycroinc.com
傳真：
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