光刻機Mask Aligner

簡要描述：MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask Aligner），是的光刻系統，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。

產品型號：MEMA-800
廠商性質：代理商
更新時間：2025-07-02
訪問量：2717

產品咨詢聯系我們

產品分類

掩膜曝光光刻機

Mask Aligner光刻機 Mask Aligner系列 NXQ系列查看全部產品

詳細介紹

光刻機分為半自動和全自動兩大系列。MEMA-800是研發中心和大學中的微機開發。操縱器，壓力傳感器，加速度傳感器，功率設備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光學/高速通信組件中。

二、技術參數：

1、目標分離：15?75毫米；

2、總放大倍率：100倍；

3、觀察照明器：紅色LED（λ= 633 nm）；

4、X，Y平臺移動范圍：±5毫米；

5、θ調整：±5°

6、主體電源和水銀燈：交流100V 50 / 60Hz 15A

7、真空源：低于21.3 Kpa（大氣壓為-80 Kpa）

8、鏡片：積分鏡

9、汞燈：250W超高壓蒸汽汞燈

10、有效接觸面積：大φ100毫米

11、強度分布：±5％以下

12、照度：20 mW / cm 2 （405納米）

13、曝光時間控制：數字計時器和旋轉螺線管

14、汞燈照明裝置：交流110V

三、產品特點：

經濟，緊湊和高級性能
在視場中查看兩個對準標記的融合圖像。
用于曝光的積分鏡。
LED照明器

產品咨詢

上一篇：MSMA-1200M光刻機Mask MSMA
下一篇：MPEM-1600掩膜曝光光刻機Mask Aligner

光刻機Mask Aligner

留言框

產品：

您的單位：

您的姓名：

聯系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細地址：

補充說明：

驗證碼：