光刻機(jī)Mask Aligner

簡(jiǎn)要描述：MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（光刻機(jī)Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。

產(chǎn)品型號(hào)：MEMA-800
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2025-07-02
訪問(wèn) 量：2795

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掩膜曝光光刻機(jī)

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詳細(xì)介紹

光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學(xué)中的微機(jī)開發(fā)。操縱器，壓力傳感器，加速度傳感器，功率設(shè)備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光學(xué)/高速通信組件中。

二、技術(shù)參數(shù)：

1、目標(biāo)分離：15?75毫米；

2、總放大倍率：100倍；

3、觀察照明器：紅色LED（λ= 633 nm）；

4、X，Y平臺(tái)移動(dòng)范圍：±5毫米；

5、θ調(diào)整：±5°

6、主體電源和水銀燈：交流100V 50 / 60Hz 15A

7、真空源：低于21.3 Kpa（大氣壓為-80 Kpa）

8、鏡片：積分鏡

9、汞燈：250W超高壓蒸汽汞燈

10、有效接觸面積：大φ100毫米

11、強(qiáng)度分布：±5％以下

12、照度：20 mW / cm 2 （405納米）

13、曝光時(shí)間控制：數(shù)字計(jì)時(shí)器和旋轉(zhuǎn)螺線管

14、汞燈照明裝置：交流110V

三、產(chǎn)品特點(diǎn)：

經(jīng)濟(jì)，緊湊和高級(jí)性能
在視場(chǎng)中查看兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的融合圖像。
用于曝光的積分鏡。
LED照明器

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