光刻膠SU-8 2000

簡(jiǎn)要描述：SU-8 2000是一種高對(duì)比度，基于環(huán)氧的光致抗蝕劑，設(shè)計(jì)用于微加工和其他微電子應(yīng)用，需要厚，化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方，多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥，極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。通過單道涂覆工藝可以實(shí)現(xiàn)0.5至> 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。

產(chǎn)品型號(hào)：2005/2010/2025
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2025-07-01
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光刻膠

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詳細(xì)介紹

加工準(zhǔn)則

SU-8 2000光刻膠通常用常規(guī)的UV（350-400 nm）輻射曝光，盡管建議使用i-line（365 nm）波長(zhǎng)。 SU-8 2000也可能會(huì)受到電子束或X射線輻射的照射。曝光后，交聯(lián)在兩個(gè)步驟中進(jìn)行（1）在曝光步驟中形成強(qiáng)酸，然后（2）在曝光后烘烤（PEB）步驟中進(jìn)行酸催化的熱驅(qū)動(dòng)環(huán)氧交聯(lián)。正常過程是：旋涂，軟烤，曝光，PEB，然后顯影。

SU-8 2000功能

•高縱橫比成像

•單層涂膜厚度為0.5至> 200mm

•改善涂層性能

•更快干燥以提高產(chǎn)量

•近紫外線（350-400 nm）處理

•垂直側(cè)壁

硬烤（固化）

SU-8 2000具有良好的機(jī)械性能。但是，對(duì)于要保留成像的抗蝕劑作為終設(shè)備一部分的應(yīng)用，可以將硬烘烤結(jié)合到該過程中。通常僅在終設(shè)備或零件在正常運(yùn)行期間要進(jìn)行熱處理時(shí)才需要這樣做。添加了硬烘烤或終固化步驟，以確保SU-8 2000的性能在實(shí)際使用中不會(huì)改變。 SU-8 2000是一種熱敏樹脂，因此暴露于比以前高的溫度下，其性能會(huì)不斷變化。我們建議使用的終烘烤溫度要比設(shè)備的預(yù)期工作溫度高10°C。根據(jù)所需的固化程度，通常使用的烘烤溫度范圍為150°C至250°C，烘烤時(shí)間為5至30分鐘。注意：硬烘烤步驟還可用于對(duì)顯影后可能出現(xiàn)的任何表面裂紋進(jìn)行退火。建議的步驟是在150°C下烘烤幾分鐘。這適用于所有膜厚度

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