自1985年起，Laurell公司向遍布所有的生物化工和半導體材料科研領域的實驗室提供表面涂敷工藝的解決方案，目前，*有超過15000套系統正在安全運行。WS-1000M Laurell-WS半導體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構造，可內置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統，可選擇WS-1000濕法刻蝕設備，WS-1000系列旋轉處理濕法設備可以

自1985年起，Laurell 濕法刻蝕設備是生物化工和半導體材料科研領域的實驗室提供表面涂敷工藝的解決方案，目前，*有超過15000套系統正在安全運行。

Laurell-EDC勻膠顯影機系列勻膠顯影系統適用于半導體前段制程的勻膠，顯影，刻蝕，沖洗，甩干等工藝，可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導體濕法工藝的經驗積累，通過對各路試劑注射的控制，對氮氣和去離子水綜合應用，能夠完整實現樣片的干進干出。是當今*和經濟的濕法處理解決方案。

Laurell勻膠顯影機EDC產于美國，是原裝的濕法刻蝕設備美國Laurell,Inc總部位于美國賓夕法尼亞，成立于1985年，是一家專業提供化工半導體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司。公司擁有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各類顯影系統，目前客戶已遍布。還有WS-1000濕法刻蝕設備，WS-1000m濕法刻蝕設備等多種半導體濕制成設備。

EDC濕法刻蝕顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。